粉体行业在线展览
SiC CMP抛光设备
面议
江苏创生源
SiC CMP抛光设备
851
系统配置
系统类型:全自动化干燥/干燥晶圆尺寸:150mm或200mm工艺可行·EFEM:2-盒式,传输机器人中间机器人
Qgrind 100
Chiron 250DA
双面研磨/抛光6S、9B、9.6B系列
ED16B
金相试样磨抛机
MECPOL-PA进口自动磨抛机
PG6镜面抛光机
MCMG13.8大米抛光机
干冰抛光设备-XJ-96
非金属抛光机
单面抛光机
PS-942小面积异型打磨机