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高纯硼靶材是一种用于 物理气相沉积 （PVD）技术，特别是 溅射镀膜 工艺的关键性基础材料。 它通常由 高纯度 的硼（B）粉末经过一系列复杂的工艺（如热压、热等静压等）制成具有一定形状（如圆形、矩形）和机械强度的固体靶材，并背靶焊接在金属垫片上，以便安装在溅射设备中使用。 “高纯”是硼靶材的核心指标之一，通常要求纯度在99.95%（3N5）以上，甚至达到99.999%（5N）级别。
