在精密制造、半导体、功能材料等领域，溅射镀膜是制备高附着力、高均匀性薄膜的核心工艺，而小型化、高集成度的桌面型溅射设备，一直是实验室研发、小批量生产的核心需求。传统大型溅射设备体积庞大、成本高昂，难以满足实验室便捷使用、小批量试产的高效需求，成为工艺升级的瓶颈。

ARIOS SS-DC・RF301 小型溅射镀膜机，为小型化溅射镀膜提供了高集成度的专业解决方案。这款设备搭载 2 英寸磁控管阴极与基板加热机构，将所有功能紧凑集成在 JIS 机架尺寸内，仅需电力与氩气供应即可运行，可实现高附着力的坚固薄膜制备，**适配实验室研发、小批量生产等多场景使用。

设备体积紧凑，仅占办公桌约一半空间，重量仅 100kg，无需复杂场地改造，接电通气即可投入使用。支持基板上下手动调节，可自由设定靶材与基板的间距，适配多样化工艺；基板**加热温度达 500℃（可选 800℃），可满足高温镀膜需求。标配 Chiller 冷却系统，法兰可互换，支持溅射上 / 溅射下两种模式，溅射电源可选择 DC 或 RF，拓展性极强。

无论是半导体材料的薄膜沉积工艺探索、精密零件的表面镀膜，还是功能粉体的表面改性，ARIOS SS-DC・RF301 小型溅射镀膜机都能提供稳定、高效的处理支持。作为日本 ARIOS 的专业设备，产品凭借小型轻量化、高集成度的优势，成为溅射镀膜工艺研发与小批量生产的优选设备，助力企业提升工艺效率、优化产品品质，是桌面型溅射镀膜的专业解决方案。