>应用领域

CVD系列真空气氛管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长、科研实验用石墨烯的生长等等；也可适用于金属材料的扩散焊接以及真空或保护气氛下热处理。

>主要特点

采用高纯石英管或刚玉管作为内炉膛，可拆卸式的三面密封方式，具有良好的洁净度和真空度；耐火、保温材料全部采用先进的轻质纤维制品，整机质量轻、能耗低；加热元件采用U型硅钼（碳棒或原装进口电阻丝；温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，温度控制具有良好的稳定性、重复性。

>技术指标

>搜索关键词

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