ZEISS公司具有悠久的电镜研究、生产历史，在世界上一直处于地位。
当今的ZEISS公司纳米技术系统分部（The Nano Technology Systems Division of Carl Zeiss SMT）由德国本部电镜生产基地和英国剑桥厂及其他配件厂组成。积扫描电镜领域及透射电镜领域多年的研发经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个一：
一台静电式 TEM (1949)
一台商用 SEM (1965)
一台全数字 SEM (1985)
一台带有成像滤波器的 TEM (1992)
一台可变压力 FE-SEM (2001)
一台具有Koehler照明的 200kV FE EFTEM (2003)
一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的EFTEM (2003)
ZEISS电镜技术经历了Cambridge、OPTON、LEICA、LEO等发展阶段，现已具有钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等生产能力的厂家。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。
2. 先进的仪器结构设计
ZEISS扫描电镜采用通用的镜体设计，可配备各种不同的附件，适应各种分析的需要。并具有灵活的可升级性，可按照用户研究工作发展的需要进行升级。各种类型的扫描电镜均有高真空、低真空（或超低真空）型号，以满足不同样品检测的需要。
3. **的技术性能
高分辨率 ： 目前，钨灯丝扫描电镜的分辨率达到3nm，能够满足失效分析、材料研究等方面的需要。
大样品室： ZEISS扫描电镜具有世界上大的样品室，样品室内部尺寸为Φ365mm×275mm，全对中的样品台，可放置的大样品尺寸为Φ250mm×145mm，样品台大承载重量为5kg，方便各种大样品的分析。
高效无污染真空系统： ZEISS各种型号的扫描电镜均采用了涡轮分子泵抽真空，其抽真空速度快、无污染、免维护是其大的优势。还可提供无油的真空系统。
自动化操作： 新型的扫描电镜全部采用当前先进的计算机集成自动化控制，采用Windows视窗操作系统、图形用户控制界面，全部操作可用键盘和鼠标完成。样品台坐标轴全部马达驱动，软件功能强大，操作非常简单和方便。
五轴马达自动控制全对中样品台：X:125mm Y:125mm Z:50mm T: 0～+90度 R:360度。
高稳定性、可靠性： ZEISS扫描电镜具有很高的稳定性，镜筒、电路板等均采用了水冷，保证了其工作的稳定与可靠。做工的精湛，工艺的考究，也为世界之首。
4. 全面的成像解决方案
ZEISS的钨灯丝扫描电镜可以提供高真空、低真空和超低真空工作模式，对任何材料都没有局限性，满足金属、陶瓷、地矿、化工、半导体、生命科学等所有研究领域需要。其超大样品室预留足够端口，可搭配能谱、波谱、背散射电子衍射、阴极荧光等，样品台可装加热台、冷却台和拉伸台以满足各种研究需要。其大束流和优异的束流稳定度支持各种大束流和长时间的分析。
扫描电镜的强大功能已使其成为研究所以及工厂的微观失效分析的一个基本工具，为失效分析提供真实确切的证据，提高相应领域的分析水平。广泛应用于航空航天、交通、材料、冶金、地矿、半导体、生命科学等方面。
5. 低真空的应用
在失效分析中，除了金属样品外，还有很多非金属样品，这些样品导电性很差。要分析这些非导电样品，样品的充电是不可避免的。由于电子束打到样品上使样品带电，其产生的电场影响了二次电子的产生和接收，使图像上呈现一片片亮的或暗的区域，无法进行正常观察。要对这些非导电样品进行分析，就必须排除样品充电的影响。其方法之一就是将样品上的电荷中和掉。ZEISS扫描电镜所采取的措施是：使样品室处于低真空状态，样品表面所产生的二次电子与样品室中的气体分子相碰撞，使气体电离，这些气体离子附着于样品表面，将样品上所带的电荷中和掉。使用专用的探测器，接收二次电子与气体分子相碰撞时产生的光子，这些光子也就代表了二次电子信号，使成像不受样品导电性的影响，在分析这些样品时能够得到理想的成像。
对于一些含水、含油的样品，可以采用更低的真空度，使水分在该压力、温度下不至于挥发，这样便可观察到真实的生物样品形貌。
6. 具有多种观察模式，
分辨率模式、景深模式、分析模式、视场模式、鱼眼模式。
