粉体行业在线展览
面议
544
技术参数:
技术指标:
坩埚大小:1cc;2cc,(其它体积定制)
可实现的金属层厚度: > 500 nm per load at distance 250 mm
通常(**)沉积速度:1 nm/sec (10 nm/sec) at distance 250 mm
加热系统:带坩埚的陶瓷容器
选项:标准金属容器(可替换)
温度范围:300°C ~ 1700°C
电源要求:电压 < 10 V (typ. 9 V);电流 < 200 A (typ. 110 A);功率 up to 2 kW
冷却水:approx. 15 l /min
选项:
• 陶瓷容器;金属容器
• 可弯曲的金属管用于冷却系统,免工具操作
• 与有机物升华器的联合装配
主要特点:
微型金属升华器专为实验室研究或微小规模的制备而设计,可以装配高真空或超高真空系统,主要用于沉积制备金属层。
特殊设计的升华器核心构成为传导效率很高的陶瓷容器,同时包括一个嵌入的坩埚。两种材料均能够承受金属的溶解过程。坩埚的材料可以所所升华金属的不同而选择。