粉体行业在线展览
面议
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德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪
型号:Zeiss Sigma SEM
主要功能:
·利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(*小线宽为10mm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。
技术指标:
·肖特基热场发射电子源
·加速电压:100V~30kV
·放大倍率:12X~1000,000X
·SEM分辨率:1nm@30kV,1.5nm (15kV),2.8nm(1kV)
·电子束曝光:10nm(20kV)
·场拼接精度:<100nm
·扫描频率:6MHz
·图形格式:GDSII
FORJ
德国MicroTec—CUT4055
Spex 3636 X-Press® 实验室用自动压片机
PD-10电镜粉末制样仪
全自动切片机
YPZ-GZ110L
SPEED wave
ZYP-X60T
XHLQM-30