粉体行业在线展览
面议
625
EMS 150T Plus为紧凑的分子涡轮泵镀膜系统,适合SEM、TEM及许多薄膜应用。
EMS 150T Plus 集成了溅射和碳蒸镀两种沉积镀膜功能的高分辨镀膜系统
新款改进
● 触摸屏更换成便于操作的电容触摸屏
● 固件更新,新版操作界面类似安卓系统,便于客户上手
● 新的彩色LED可视状态指示灯
● 双核ARM处理器,可快速响应
● USB接口可以用于固件更新,并可将镀膜方案文件备份/复制到USB存储设备
● 可以通过USB端口以.csv格式导出过程日志文件,以便统计分析
主要特点:
●金属溅射或碳蒸发一体化设计,节省空间
●适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用
●涡轮分子泵高真空系统,适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材
●全自动触摸屏控制,快速数据输入,操作简单
●可储存多个客户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想
●预编程自动真空控制
●使用膜厚监控选件精确控制膜厚
●智能系统识别,自动感知用户所插入镀膜头的类型
●高真空碳蒸镀,对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想
●先进的碳棒蒸镀枪设计和电流控制技术,操作简单,重现性好
● Drop-in式快速换样品台(标配旋转台)
●真空闭锁功能,让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态
●不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟,适合材料科研应用
●人体工程学设计,整体成型机壳,维护、拆装容易
技术参数:
●工作腔室:165mm外径 x 127mm高
●触摸屏全图像用户界面
●靶材:标配直径57mm x 厚0.3mm Cr靶
●样品台:标配旋转台,直径60mm,转速8-20 rpm ,可选配旋转倾斜台。
●真空系统:
涡轮分子泵:带有空气冷却的涡轮分子泵
旋转机械泵:双程旋转机械泵
●极限真空度:5 x 10-5mbar
●溅射真空度: 5 x 10-3 到 5 x 10-1mbar之间
●溅射电流:0-150mA;可预设膜厚或使用内置定时器(选配)
●溅射时间:*长60分钟
●碳蒸发:稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保碳棒可重复蒸碳,电流脉冲1~90A。
●尺寸和重量:仪器机箱585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm)
FORJ
德国MicroTec—CUT4055
Spex 3636 X-Press® 实验室用自动压片机
PD-10电镜粉末制样仪
全自动切片机
YPZ-GZ110L
SPEED wave
ZYP-X60T
XHLQM-30