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EMS 150T Plus高真空离子溅射仪

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产品介绍

EMS 150T Plus为紧凑的分子涡轮泵镀膜系统,适合SEMTEM及许多薄膜应用。

EMS 150T Plus 集成了溅射和碳蒸镀两种沉积镀膜功能的高分辨镀膜系统

新款改进

● 触摸屏更换成便于操作的电容触摸屏

● 固件更新,新版操作界面类似安卓系统,便于客户上手

● 新的彩色LED可视状态指示灯

● 双核ARM处理器,可快速响应

● USB接口可以用于固件更新,并可将镀膜方案文件备份/复制到USB存储设备

● 可以通过USB端口以.csv格式导出过程日志文件,以便统计分析

主要特点:

金属溅射或碳蒸发一体化设计,节省空间

适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用

涡轮分子泵高真空系统,适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材

全自动触摸屏控制,快速数据输入,操作简单

可储存多个客户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想

预编程自动真空控制

使用膜厚监控选件精确控制膜厚

智能系统识别,自动感知用户所插入镀膜头的类型

高真空碳蒸镀,对SEMTEM镀碳膜应用非常理想

先进的碳棒蒸镀枪设计和电流控制技术,操作简单,重现性好

Drop-in式快速换样品台(标配旋转台)

真空闭锁功能,让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态

不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟,适合材料科研应用

人体工程学设计,整体成型机壳,维护、拆装容易

技术参数:

工作腔室:165mm外径 x 127mm

触摸屏全图像用户界面

靶材:标配直径57mm x 0.3mm Cr

样品台:标配旋转台,直径60mm,转速8-20 rpm ,可选配旋转倾斜台。

真空系统:

涡轮分子泵:带有空气冷却的涡轮分子泵

旋转机械泵:双程旋转机械泵

极限真空度:5 x 10-5mbar

溅射真空度: 5 x 10-3 5 x 10-1mbar之间

溅射电流:0-150mA;可预设膜厚或使用内置定时器(选配)

溅射时间:*长60分钟

碳蒸发:稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保碳棒可重复蒸碳,电流脉冲1~90A

尺寸和重量:仪器机箱585mmx 470mm x 410mm (总高: 650mm)

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广州竞赢科学仪器有限公司

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