镀金系统

样品室大小

直径120mm x 120mm 高

靶材

Au靶为标配， Au:Pd， Pt， Pt:Pd （选件）;大小：直径57mm x 0.1mm厚

样品台

可以装载12个SEM样品座，高度可调范围为60mm

可选配旋转倾斜样品台，旋转速度：0~120rpm可调，倾斜角度：0~90°可调。旋转样品台具有单独腔体保护，可防污染。

溅射控制

微处理器控制，安全互锁，可调，**电流40mA，程序化数字控制

溅射头

低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩

模拟计量

真空： Atm - 0.001mbar

电流：0—50mA

厚度监控

(选件)

使用MTM-20高分辨厚度控制仪（选件）自动终止溅射过程，或使用MTM-10高分辨厚度监控仪（选件）手动终止溅射过程

控制方法

自动气体换气和泄气功能，自动处理排序，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s），自动放气

桌上系统

真空泵可置于抗震台上，全金属集成耦合系统

镀碳系统

样品室大小

直径120 x 120mm 高

蒸发源

Bradley型 (6.15mm rods， [1/4"])高强度不锈钢结构

蒸发控制

基于微处理器的反馈回路控制，能够进行远程电流/电压感应，基于真空水平变量的安全互锁功能，**电流180A，提供过流保护

样品台

可装置12个样品座，高度在30mm范围内可调

模拟计量

真空: atmos - 0.001mb; 电流: 0-200A

控制方法

自动蒸发控制，使用程序设定的电压和时间

以脉冲或连续方式进行完全手动控制

数字定时器（0－9.9s）

数字电压设置（0.1 to 6.0V）

真空系统

真空泵

2级直连式高速真空泵

抽气速率

100L/MIN

噪音

50dB

极限真空

≤1 x 10^-3Torr