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YMP-2C金相试样磨抛机

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上海蔡康光学仪器有限公司

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YMP-2C金相试样磨抛机

在金相试样制备过程中,试样的磨光与抛光是二项非常重要的工序,通常是采用金相试样预磨机和金相试样抛光机二种设备来完成。YMP-2C是集预磨机和抛光机功能于一体的磨抛一体机,该机经久耐用,维护保养也极为方便,能完成各种试样的粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序,为扩大不同试样的制备要求,该机的磨、抛盘直径均大于国内同类产品。可在工作面上有更多不同线速度的选择,该机采用变频电机,一键控制双盘运行,双盘转速任意可调,可提高试样的磨抛质量和试样的制备效率,并该机转动平稳,噪音低,是一种极为理想和功能完善的金相制样设备。

YMP-2C金相试样磨抛机参数:

磨盘直径:230mm

砂纸直径:230mm

抛盘直径:230mm

抛光布直径:230mm

转速:50-1500r/min无极变速

电动机:BY71,350W

电压:220V,50Hz

外形尺寸:71×66×34cm

净重:51Kg

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