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上海载德半导体技术有限公司
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大尺寸磁控溅射镀膜机

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产品介绍

技术规格：

- 多矩形阴极;

- 射频或直流溅射(RF， DC);

- 基底尺寸：30cm x 40cm;

- 沉积时衬底振荡;

- 常用于ITO， AZO等膜层的沉积;

- 均匀性：优于5% (沉积TCO或金属薄膜);

获取更多信息，请访上海载德半导体技术有限公司 网站

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