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小型台式无掩模光刻系统
小型台式无掩模光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩模板的设计通常需要经常改变。无掩模光刻技术通过以软件设计电子掩模板 的方法，克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩模直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。
产品特点
Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。 | 光学轮廓仪 Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向**精度100 nm，方便快捷。 |
标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。 | 直写前预检查 软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。 |
简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 | Clewin 掩模图形设计软件 ? 可以读取多种图形设计文件（DXF， CIF， GDSII， 等） ? 可以直接读取TIFF， BMP 等图片格式 ? 书写范围只由基片尺寸决定 |
产品参数
Microwriter ML3 | 基本型 | 增强型 | 旗舰型 |
**样品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
**直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 （365+405nm双光源可选） |
直写分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm， 1μm， 2μm， 5μm |
直写速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
对准显微镜镜头 | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3， x5， x10， x20 自动切换 |
多层套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
*小栅格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
样品台*小步长 | 100nm | 100nm | 50nm |
光学轮廓Z分辨率 | 无(可升级) | 300nm | 100nm |
样品表面自动对焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直写(255级) | 是 | 是 | 是 |
自动晶片检查工具 | 无(可升级) | 有 | 有 |
温控样品腔室 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
气动减震光学平台 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
应用案例
直写分辨率0.1μm
直写分辨率0.6μm
微电极制备
光刻胶上的图形 | Au电极（SEM） | Au电极（SEM） |
设计图 | 光刻胶上的图形 | 放大图的显微结构 |
微结构制备
微流通道制备
