粉体行业在线展览
CMD2000
5-10万元
IKN
CMD2000
3098
0-10微米
IKN研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
食品工业、涂料油墨、生物医药、日用化工、农药化肥、石油化工、精细化工
全国各地
高浓度石墨烯浆料研磨分散机,高浓度石墨烯浆料制备设备,液相剥离膨胀石墨设备,水相剪切剥离制备石墨烯设备,蠕虫石墨制备石墨烯研磨设备,膨胀石墨制备石墨烯设备,德国进口高级安全研磨设备,高转速研磨分散设备
IKN研磨分散机采用独特设计,显著延长了易损件的使用寿命,特别适用于高硬度及高纯度物料的粉碎处理。该设备功能多样,可单机独立运行,也可与其他设备联动使用,且粉碎粒度范围广泛,成品粒径可根据需求灵活调整。
石墨烯凭借其**的力学性能、导电性和导热性,吸引了众多研究团队对其理论和应用展开深入探索。然而,石墨烯的高昂价格限制了其广泛应用,因此开发绿色环保、高品质、大规模且高浓度的制备工艺成为当前石墨烯领域的研究热点。这不仅是推动石墨烯实现工业化应用的关键,也是促进传统材料升级换代的重要环节。
液相剥离膨胀石墨是制备高质量石墨烯的有效方法之一,可实现绿色、高品质及规模化生产。然而,膨胀石墨作为一种非极性材料,具有极强的吸附性能,其吸油值远高于活性炭(以NMP为溶剂时尤为显著)。在制备石墨烯浆料的过程中,由于膨胀石墨对溶剂的强吸附作用,导致其与表面活性剂和溶剂的混合物难以形成稳定的连续悬浊液。特别是在制备高浓度石墨烯浆料时,初始混合后的物料呈现砂浆状,超声波难以在溶剂介质中有效传播,更无法渗透至膨胀石墨层间,导致剥离效率显著降低甚至失败。
膨胀石墨对油性溶剂和表面活性剂水溶液具有较高的吸附能力,这使得传统高浓度石墨烯浆料的制备面临诸多挑战。目前常用的方法是通过浓缩低浓度石墨烯浆料来提高浓度,但该方法存在明显缺陷。过滤分离过程中,由于石墨烯片径较小,需要使用孔径更小的滤布,这不仅增加了能耗,还容易导致跑冒滴漏现象,产生大量滤液废水和清洗滤布的污水。而蒸发浓缩同样会增加工艺步骤和能耗,同时需要配备专门的蒸发水收集系统来处理大量蒸发水,进一步提高了生产成本。
石墨烯 分散技术三要素:分散介质、分散剂和分散设备
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。
CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
从设备角度来分析,影响分散效果因素有以下几点:
1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)
2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)
5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)
线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
IKN分散机在保证冷却水的前提下,可24小时连续运行。而普通设备很难做到连续长时间的运行,并且普通乳化机不能承受高转速的运行。设备可以控制粒径大小,流量大小,支持售前试机及售后,详细技术及价格欢迎来电。
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