粉体行业在线展览
1200℃集成型自动小型PECVD系统
20-30万元
中环
1200℃集成型自动小型PECVD系统
5583
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产品用途
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
PECVD系统配置;
1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统(单独购买)
产品特性;
电源范围广;温度范围宽;溅射区域长;整管可调;精致小巧,性价比高,可实现快速升降温,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

HTSET-02G
HTWOS-01G系列
可视化高温形变分析仪TA- Z16A01(真空)
TA-1601
TA-16B01
TA-Z20,TA-Z25
自动进料旋转管式炉
UHS-3000Plus
UHS-3000
ZHM-3616Q
HTWOS-01G
ZHG-P30126