粉体行业在线展览
DYNO®-MILL NPM Pilot
60-70万元
WAB
DYNO®-MILL NPM Pilot
16263
优势
适用于通道模式和循环模式操作,效率稳定,可实现最窄粒度分布
采用优质陶瓷,使用寿命长,无金属污染
高效的能源输入,能耗低
适用于小批量生产,冷却性能理想,可加工对温度敏感的产品
操作简单,可记录运行数据并保证重现性
只需少量清洁剂即可轻松清洗
操作简便,运行和维护成本低
研磨腔的低间隙设计
DYNO®-MILL NPM(纳米性能研磨机)用于微米和纳米范围内 低粘度至粘性产品的连续分散和湿法研磨。
独特的研磨介质分离系统可使用 0.05 至 0.2 毫米的超小型研磨介质,而获得**的 DYNO®加速器即使在很高产量下也能确保稳定的工艺运行。
分散珠磨机有一个自带驱动装置的动态旋转研磨介质分离系统。这样就可以分两步完成工艺的调整。分离系统的线速度可确保研磨介质与待磨物料的安全分离。主轴的线速度可独立于分离系统根据研磨任务的需要进行调节。
凭借独特的**研磨原理,DYNO®-加速器,以*窄的粒度分布达到**的产品质量,细度范围小于100纳米。DYNO®-加速器可确保研磨介质的强力液压运动,并保证高效均匀的能量输入以及温和的加工,适用于从低粘度到高粘度的产品。
优势
适用于通道模式和循环模式操作,效率稳定,可实现非常窄的粒度分布
采用优质陶瓷,使用寿命长,无金属污染
高效的能源输入,能耗低
适用于小批量生产,冷却性能理想,可加工对温度敏感的产品
操作简单,可记录运行数据并保证重现性
只需少量清洁剂即可轻松清洗
操作简便,运行和维护成本低
研磨腔的低间隙设计
DYNO®-MILL RL
T2GE
UBM 20
UNI LAB
WAB IMPA°CT REACTOR®化学反应器
AP10
ECM-AP 05
ECO5
DYNO®-MILL KD系列
DYNO®-MILL NPM Pilot
DYNO®-MILL MULTI LAB
dyna-MIX® CM 1000