粉体行业在线展览
ES50B单面抛光机
面议
森永光电
ES50B单面抛光机
15
设备参数
单面研磨/抛光机
名 称
ES50B单面抛光机
机械尺寸
长2450㎜×宽1721㎜×高2900㎜
机械重量
7500KG
参数表
设备参数
50B单面抛光机 | ||||
定盘直径 | Φ1282xΦ310x T50mm | |||
压力板直径 | Φ485mm | |||
机器尺寸 | 2450x 1721 x 2900mm | |||
机器重量 | 7500KG | |||
电源 | 380V/50Hz | |||
马达功率 | 22KW | |||
定盘回转数 | 0-90RPM/Min |
其他参数
机器重量 | 7500KG | 驱动电机 | ●0.4KWx4 1.6KW PP头驱动电机 ●22KW下定盘驱动电机 |
电源 | 380V/50Hz | 定盘回转数 | ●0~90RPM |
P.P 回转数 | 0~ 80 RPM | P.P **压力 | ●300KG |
气源压力 | 0.6MPa | ||
单次加工数量 | ●4"片 单P.P 10片 4P.P 40片 ●6"片 单P.P 6片 4P.P 24片 ●8"片 单P.P 3片 4P.P 12片 | 使用环境 | 15~ 35° C ●湿度: 85%以下,污水凝结; ●空气质量:无腐蚀性.无可燃性、有害性气体、无污染物、灰尘等等 |
产品特性
气缸多种选择可适应不同加工工件工艺需求
特制低摩擦气缸,非一般市场售品气缸, 缸径粗壮,克服气缸轴的偏摆;适合大压力长时间加工的工件(如蓝宝石,碳化硅)
也可以选择使用进口品牌气缸,摩擦系数佳,可实现P.P盘缓慢轻压落盘,满足加工脆薄工件的需求
多段压控制,压力控制更精准更稳定,保证无法承受高压力的工件也能顺利加工
P.P盘自动定位机构,方便人员上下料
4个P.P盘独立控制可四轴同时加工也可单个P.P独立加工
4个P.P盘变频电机强制驱动,P.P转速可调
4个P.P盘可以于两侧分别单独操作,也可以在触摸屏中集中操作
4个P.P盘分别有独立稳压系统
4个P.P盘可以实现“快下降缓下降、缓上升、快上升”
P.P着盘压力可控,保证无法承受高压力晶片的加工
18B/20B/21B/22B高精度双面研磨/抛光机
16B高精度双面研磨/抛光机
13B/13.9B高精度双面研磨/抛光机
9B/9.6B高精度双面研磨/抛光机
6B/6.4B高精度双面研磨/抛光机
ES50B单面铜盘抛光机
ES50B单面抛光机
ES32B/36B单面抛光机
研磨定盘
毛刷盘
量尺
钻石点修正轮
Qgrind 100
Chiron 250DA
双面研磨/抛光6S、9B、9.6B系列
ED16B
金相试样磨抛机
MCMG13.8大米抛光机
PG6镜面抛光机
干冰抛光设备-XJ-96
非金属抛光机
MECPOL-PA进口自动磨抛机
单面抛光机
PS-942小面积异型打磨机