无锡吉致电子25年研发生产——半导体抛光液、铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液、铌酸锂晶体抛光液、铌酸锂抛光浆料、LN抛光液 、铌酸锂抛光液、铌酸锂晶圆抛光浆料、铌酸锂研磨抛光液、LN研磨液、铌酸锂lapping研磨抛光液、铌酸锂CMP抛光液、铌酸锂化学机械抛光液、铌酸锂抛光液厂家、铌酸锂研磨液厂家

产品简介：为半导体行业/铌酸锂晶体晶圆制备的化学机械抛光液/Slurry组合浆料，适用于LiNbO₃领域的平坦化高效加工。设计满足铌酸锂（LiNbO₃）晶圆提高材料去除率，降低表面粗糙度，获得超光滑表面

吉致电子铌酸锂抛光浆料LN Slurry应用

为光学表面提供高光洁度

抛光相关类型的表面（研磨或机械抛光）以实现原子（177----06-----168------670李）级光滑的表面光洁度