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>半导体制造用高纯超细立方SiC微粉
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西安博尔新材料有限责任公司
西安
面议
博尔
5563
0~0.1μm
导电、导热、耐磨、耐高温、耐腐蚀性
由高纯度(99.99%~99.9999%)、精细(0~0.1μm)微粉和粒度为50~800μm的单晶β-SiC做母源,经气相沉积法可制造各种单晶碳化硅,其优异的导电、导热、耐磨、耐高温、耐腐蚀性使其在**、航天、航空、电子行业等高尖端领域用来替代电子级单晶硅和多晶硅,成为当前高科技领域公认的第三代半导体材料和LED等应用的电子封装、基板材料。
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100nm-120μm
WO
NSC-01粉
GSC-50
β-SiC
NSC-01
β-SiC流体磨料
β/α- SiC研磨介质球
β-SiC+碳化硼复合流体磨料
碳化硅
GC0.5
MG-C010
409-21-2
240#
JIS#12-#12000
W63-W1
B-SiC-50N
绿碳化硅
α阿尔法相碳化硅
日本JIS標準