粉体行业在线展览
PECVD系统
面议
科佳电炉
PECVD系统
1647
产品介绍:
该产品是由射频电源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成,适用于室温至1200℃条件下进行Si02、SiNx薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,Sic膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料,尤其适合干有机材料上高效保护层膜和特定温度下无损伤钝化膜的沉积。
HTK
HXL-1600
BF1200款
固态预锂/预镁化中试炉MGB60-180HH1
箱式炉
OYS-1200C-S系列箱式炉
ZHX-B03183
YQFJ-1712
实验室1400℃箱式炉
MF-1200C-L
MITR-1200X-4.2L
接触式烤箱