粉体行业在线展览
HCVD-060609-C
100-150万元
顶立科技
HCVD-060609-C
17546
化学气相沉积炉(碳化硅)可用于以硅烷为气源的材料表面抗氧化涂层、基体改性等。
☆ 采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;
☆ 采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
☆ 采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
☆ 对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理;
☆ 采用**设计防腐蚀真空机组,持续工作时间长,维修率极低。
☆ 炉门:丝杆升降/液压升降/手动升降;旋转移开/平行移开(大尺寸炉门);手动锁紧/自动锁圈锁紧
☆ 炉壳:全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢
☆ 炉胆:软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC
☆ 加热器、马弗:等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨
☆ 工艺气路系统:体积/质量流量计
☆ 热电偶:K分度号/N分度号/C分度号/S分度号