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Harrick高温反应室HVC

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产品介绍

Praying Mantis™高温反应室对于具有高表面积的粉末特别有效。这使得漫反射成为研究异构催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机制的宝贵工具。此高温反应室非常适合在严格控制的温度和压力下进行此类研究。高温反应室应用允许在受控压力和广泛温度下进行漫反射 (DRIFTS) 光谱测量。它与FT-IR和UV-VIS漫反射光谱的Praying Mantis配件一起使用,也可用于拉曼光谱。

特征

设计用于使用 KBr 窗口的高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa(1 ktorr)或带 ZnSe 窗口的 1.5 MPa(11.3 ktorr)的操作。

温度高达 910°C(真空下)。

易于适应操作高达 3.44MPa (25.8 ktorr) 与可选的高压圆顶。

提供三个入口/出口口,用于疏散电池和引入气体。

由耐化学腐蚀的316不锈钢制成。

可选的 Silcotek/Restek 惰性涂层,具有更高的惰性和耐腐蚀性。

可选的冷却盒,可使用冷水机组或再循环器进行适度冷却或加热。

适用于微光谱应用(包括拉曼)的替代窗口组件。

美国Harrick Praying Mantis反应室 HVC高温反应室 CHC-CHA低温反应室 HVC-MRA-5拉曼高温反应室

美国Harrick Praying Mantis反应室主要应用:在压力和温度控制范围内,允许漫反射测试,必须配套Praying Mantis漫反射附件

美国Harrick Praying Mantis反应室两种模式可选:

1、高温反应室(HVC):操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr),操作温度可高达910℃ (在真空条件下)。可选配高压穹顶加压至3.44MPa(25.8 ktorr)。

2、低温反应室(CHC-CHA):操作压力从真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr),操作温度从-150℃至600℃ (在真空条件下)。

美国Harrick Praying Mantis反应室主要特点

左右两个进/出气口,中间一个抽真空口

316不锈钢耐化学腐蚀

反应室。

低压加热盒。

K型热电偶。

样品包装工具和溢出托盘。

带两个 KBr 或 ZnSe 窗口和一个玻璃观察窗口(FTIR 配置)的圆顶。

带两个 SiO2 窗口和一个玻璃观察窗(UV-Vis-NIR 配置)的圆顶。

主要型号#

MODEL NO.NAME

HVC-DRM-5Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (FTIR, ZnSe)
HVC-DRP-5Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (FTIR, KBr)
HVC-VUV-5Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (UV-Vis-NIR)

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