粉体行业在线展览
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以往的椭偏仪是单点测试,因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作,而且*小的测量分辨率就是激光光斑大小,也就是说,无法取得微小区域的膜厚分布数据。
ME-210是采用独自开发的微小偏光阵列片来克服上述两大问题的设备。
ME-210能做的就是:
能以快速取得**12inch基板上的膜厚分布
能以高分辨率取得微小区域的膜厚分布(设备**分辨率为5.5um*5.5um)
设备软件具有模拟功能,因此能比对模拟值与实际值来评估成膜工艺
透明基板的膜厚测量
技术参数:
光源--typ,636nm,Class2
设备**分辨率--5.5*5.5um
入射角--70°
测量再现性--膜厚0.1nm、折射率0.001
设备*块测量速度--5,000个点/min
载物台--标准φ8inch、选配φ12inch
TH-F120
BL-GHX-VK
线性压电纳米位移台MF40-25A
ParticleX TC
观世
在线浊度计
SuperSEM N10
SLS-LED-80B
SJ6000
CELL PAT
FS500全谱直读光谱仪