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PHL膜厚测量椭偏仪ME-210(-T)

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产品介绍

以往的椭偏仪是单点测试,因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作,而且*小的测量分辨率就是激光光斑大小,也就是说,无法取得微小区域的膜厚分布数据。

ME-210是采用独自开发的微小偏光阵列片来克服上述两大问题的设备。

ME-210能做的就是:

  1. 能以快速取得**12inch基板上的膜厚分布

  2. 能以高分辨率取得微小区域的膜厚分布(设备**分辨率为5.5um*5.5um

  3. 设备软件具有模拟功能,因此能比对模拟值与实际值来评估成膜工艺

  4. 透明基板的膜厚测量

技术参数:

光源--typ,636nm,Class2

设备**分辨率--5.5*5.5um

入射角--70°

测量再现性--膜厚0.1nm、折射率0.001

设备*块测量速度--5,000个点/min

载物台--标准φ8inch、选配φ12inch

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