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ES03是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度多入射角光谱椭偏仪,仪器波长范围从紫外到近红外。
ES03多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。
ES03系列适合于对样品进行实时和非实时的检测。
ES03系列多种光谱范围可满足不同应用场合。比如:
典型应用如:
项目 | 技术指标 |
光谱范围 | ES03V:370-1000nm ES03U:245-1000nm |
光谱分辨率 | 1.5nm |
单次测量时间 | 典型10s,取决于测量模式 |
准确度 | δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° (透射模式测空气时) |
膜厚测量重复性(1) | 0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
折射率测量重复性(1) | 1x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
入射角度 | 40°-90°手动调节,步距5°,重复性0.02° |
光学结构 | PSCA(Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度) |
样品台尺寸 | 可放置样品尺寸:直径170 mm |
样品方位调整 | 高度调节范围:0-10mm |
二维俯仰调节:±4° | |
样品对准 | 光学自准直显微和望远对准系统 |
软件 | •多语言界面切换 |
•预设项目供快捷操作使用 | |
•安全的权限管理模式(管理员、操作员) | |
•方便的材料数据库以及多种色散模型库 | |
•丰富的模型数据库 | |
选配件 | 自动扫描样品台 聚焦透镜 |