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华翼高纯气体分析仪H5160(EPD)

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天津华翼科技有限公司

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产品介绍

华翼H5160高纯气体分析仪,配备了增强型等离子体检测器(Enhanced Plasma Detector,EPD)。EPD的原理是在检测器的石英小池周围加以高频、高强度的电磁场,在高频、高强电磁场的作用下载气和杂质气体被电离为等离子体,等离子体具有较高的能量,当样品进入检测器的石英小池之后,被等离子体电离并发出不同波长的光,经相应的滤光片及光电二极管后转换为电信号,因此,相比于痕量分析中常用的PDHID检测器,EPD选择性更好,灵敏度更高,另外,EPD可以选择氩气等相对低成本的载气种类,维护成本低于PDHID。

EPD提供了更好的信噪比以及更高的电离效率,是现有等离子体发射检测器(Plasma Emission Detector,PED)的升级换代版本**的优势在于其聚焦/稳定和电子注入电极技术,以及高度稳定的频率控制系统。目前其他商品化PED存在的主要缺陷是稳定性差,表现在三个方面:一是等离子体在常压下的不稳定性;二是等离子体石英池内表面的电荷聚集效应;*严重的是石英池内表面、尤其是放电电极附近的位置,受长时间溅射效应的影响,会逐渐粗糙化,导致色谱峰的拖尾/展宽,进而灵敏度减低,而EPD所采用的独特技术在**程度上避免了上述缺陷。

稳定技术

PED(现有等离子技术)和EPD基线噪音的对比

技术特点:
●操作自动化程度高,用户只需按动一次启动键,即可完成样品分析。
●采用了加拿大ASDevices公司的增强型EPD检测器,该检测器对**性气体杂质的检测限可达1 PPB。

杂质种类H2O2N2CH4COCO2
检测限(ppb)氦载气111111
氩载气555555

●选用经特殊处理的色谱柱,消除了色谱柱对O2、CO等痕量组分的非正常吸附现象。
●所采用的进样阀及切换阀均为进口带吹扫功能的产品,在保证仪器耐用性的同时,消除了空气渗漏对样品分析结果的影响。
●所有的接头及管线均经过抛光处理,且接头处经高精度加工处理,一是为防止气体泄漏,二是将系统死体积降至*低,三是减小某些痕量组分的吸附。另外,色谱柱两端的密封方式为VCR密封,其他接头均采用镀金卡套密封,泄漏量比普通卡套形式低一个数量级。
●采用背压阀控制的升压进样方式,能够消除进样波动并获得相对较高的分析灵敏度。
●所有管线,包括色谱柱管,均为进口产品,保证管壁光洁度。
●仪器配备有专用的载气减压器、进口载气纯化器及采样器,保证分析结果的准确性。
●可配备我公司独有的氧氩分离组件,用于分析氩气之外样品气中氧及氩含量,尤其在分析高纯氧中杂质含量时,无需采用脱氧装置,能够大大减少设备维护工作量。

谱图样例:

氦气中H2、O2、N2、CH4、CO(均为1 ppm)

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