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C11665-01微米膜厚测量仪

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401

产品介绍

C11665-01 微米膜厚测量仪

特性

  • 无参照物工作

  • 尺寸紧凑,节省空间

  • 高速、高准确度

  • 不整平薄膜精确测量

  • 分析光学常数(n,k)

  • 可外部控制

参数

型号C11665-01
可测膜厚范围(玻璃)0.5 μm to 700 μm*1
可测膜厚范围(硅)0.5 μm to 300 μm*2
测量可重复性(硅)0.1 nm*3 *4
测量准确度(硅)±1 %*4 *5
光源LED
测量波长940 nm to 1000 nm
光斑尺寸Approx. φ1 mm*4
工作距离5 mm*4
可测层数**10层
分析FFT 分析,拟合分析,光学常数分析
测量时间19 ms/点*6
光纤接口形状FC
外部控制功能RS-232C / Ethernet
电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz
功耗85W

*1:SiO2薄膜测量特性

*2:Si薄膜测量特性

*3:测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差

*4:取决于所使用的光学系统或物镜的放大率

*5:在标准量具的测量保证范围内

*6:连续数据采集时间不包括分析时间

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滨松光子学商贸(中国)有限公司

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