粉体行业在线展览
HMPS-2120S微波等离子体CVD设备
面议
和瑞微波
HMPS-2120S微波等离子体CVD设备
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微波功率容量大、功率密度高;
◆沉积面积大、速率快、质量高;
◆安全可靠,满足单晶、多晶金刚石产业化生产运行;
◆第三代高稳定固态功率源,新型下馈式大容积碟形放电工作腔;
◆微波功率0.5~12kW连续可调,稳定度1%;
◆放电区Φ≥100mm;均匀沉积区Φ≥75mm;
◆工作气体:H2/CH4/N2/CO2或O2或Ar;
◆极限真空度:6×10-4Pa;真空漏率:10-9Pa·m3/s;
◆工作压力:0.1~30kPa;自动控制;
◆红外测温:600~1800℃(双色);
◆PLC和15寸触摸屏多参数自动控制。
WSPS-2450-300-CMFA固态微波源
WSPS-915-100W/200W固态微波源
WSPS-2450-100W/200W固态微波源
WSPA-5800-100M固态功放模块
WSPS-433-200-CMFA固态微波源
WSPS-433-200-CCFA固态微波源
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