粉体行业在线展览
粉体行业在线展览
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650
直接联系
北京泰科诺科技有限公司
北京
面议
北京泰科诺
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650
2604
基片台尺寸：抽屉式：150mm×120mm 可旋转、升降
膜厚不均匀性：≤ ±5.0%（120mmx120mm 范围内）
溅射靶：6英寸3只
溅射靶电源：1台RF，2台DC
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：L2500mmxW1600mmxH1900mm ( 不含手套箱 )
总功率：≥15kW 三相五线制
高真空磁控溅射镀膜设备JCP500 高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500
高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600
ZHDS400
纳米超硬膜涂层设备GDM1000
纳米超硬膜涂层设备GDM900
粉体镀膜设备JGCF800
粉体镀膜设备JGCF350
钙钛矿太阳能电池磁控镀膜设备JCP700
真空电弧炉VDK250
多功能磁控离子溅射复合镀膜机TSU650
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500
磁控蒸发复合镀膜机JCPF2600
FT-3204A
SEMPREP SMART
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
TZ-517D
FRINGE PLUS
SHM1000
合金分析仪
其他
VISUM
NVT-HG型 单晶生长炉
船用水炮系列
