设备名称：多功能磁控离子溅射复合镀膜设备

设备型号：TSU650

真空腔室结构：立式圆柱形前开门，双层水冷，多通用法兰接口

真空腔室尺寸：Φ650mm×H650mm

工件架尺寸：Φ490mm，4-6 工位公 / 自转工件架

工件架烘烤温度：室温～ 500±5℃，可调可控（PID 控温）

工件架运动方式：公转 0-5RPM 可调

辅助离子源：偏压、线性离子源辅助（可选）

阴极：矩形磁控靶、柱状靶、平面弧源、磁过滤弧源（可选） 国产或进口靶、或电源可选

控制方式：PLC 控制 / 工控机全自动控制可选

占地面积：主机 L2800mm×W1200mm×H1950mm

总功率：≥ 60kW

选购件：基片台加热系统、循环水机、膜厚控制系统等