粉体行业在线展览
GMSD2000-158
5-10万元
SGN/思峻
GMSD2000-158
13
1-100μm
高剪切、高转速、高精度
SGN 思峻 GMSD2000 为立式三段研磨分散一体化移动设备,集成不锈钢循环储料罐、三级复合工作腔、万向移动底座,集胶体研磨、纳米高剪切分散、负压水粉混合、循环均质功能于一体,区别固定管线机型,灵活适配实验室、中试小批量生产。可选用卫生级 / 防爆级两种配置,一站式完成粉体硬团聚破碎、纳米软团聚解聚、浆料脱泡乳化,覆盖锂电、医药、食品、日化、农化全行业固液粉体预处理,换产便捷、移动灵活。
整机立式变频皮带传动,物料沿腔体自上而下三级循环处理:一级负压研磨腔:文丘里负压自动吸入干粉与液相,可调间隙锥形研磨齿挤压摩擦,打碎粉体结块,彻底润湿消除干粉鱼眼;二级中剪切解离腔:湍流打散研磨后微絮团,助剂均匀包覆粉体颗粒;三级超细分散腔:窄间隙动静齿产生水力剪切、空化效应,细化至纳米级,浆料经管路回流料罐持续循环加工。物料同步承受研磨挤压、高速剪切、离心撞击,单次循环完成研磨、混合、均质、脱泡四道工序。
研磨分散复合一体结构:先粗磨硬颗粒,再多级纳米细化,大幅降低后端砂磨负荷;一体式循环料罐 + 万向移动底座,无需外接配套罐体,工位自由切换,小试、中试通用;模块化定转子可选:碳化钨耐磨齿适配锂电、农化硬质粉体;镜面柔和齿适配珠光、蛋白、热敏物料;双安全配置:防爆款配隔爆电机、整机防静电跨接;卫生款全 316L 镜面不锈钢,支持 CIP 清洗;低温缓冲腔体,加工温升≤3℃,避免热敏原料、生物活性物高温降解;变频调速,高低粘度浆料通用,工艺可线性放大至量产设备。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
GMSD2000-67
GMSD2000-54
GMSD2000-142
GM2000-43
GMSD2000-91
GM2000-24
GM2000-7
GM2000-8
GM2000-9
GM2000-10
GM2000-11
GM2000-12