所谓光掩膜是微电子制造领域中光刻工艺所使用的图形母版，是由不透光的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形（Mask Pattern），并通过曝光将图形转印到产品基板之上。

掩模版的主要应用于以下领域：

IC（Integrated Circuit，集成电路）

尤其是LSI（Large Scale IC，大规模集成电路）包括Wafer制程及IC Bumping等

FPD（Flat Panel Display，平板显示器）包括PDP、LCD、LED、OLED等

PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）

MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）