前言随着锂离子电池在新能源汽车领域的应用越来越广泛，其能量密度、循环寿命、安全性和成本等备受关注。在循环过程中，锂离子电池正极活性材料，以高镍三元正极材料为例，在反复发生 Li⁺的嵌入与脱嵌过程中，伴随各向异性的体积变化、微裂纹扩展和相转变。颗粒力学性能失效是引发电芯容量加速衰减的关键诱因之一，如Parkb1等人的研究表明，Mg掺杂可提高NCM622单颗粒的硬度，改善NCM622正极的循环性能，因

作为一维纳米材料的核心分支，金属纳米线凭借尺寸效应带来的独特特性成为科研热点，应用潜力在多领域得到验证。银纳米线因优异的导电透光性，是柔性透明电极理想材料，应用于柔性显示、可穿戴设备科研；氧化锌纳米线因良好的光电特性，助力光电器件、气体传感等前沿科研。此外，铜纳米线以低成本适配柔性电子规模化制备。这些特性让金属纳米线材料打破基础研究与产业应用的壁垒，在电子、能源、传感等多领域展现出不可替代的价值，

过氧化钙（CaO2）纳米颗粒是近年来材料学与生物医学交叉领域的优质功能材料，具备优异的pH响应性、可控释氧与产生活性氧特性，在温和条件下可缓慢分解生成过氧化氢与氧气，降解产物安全无毒，兼具环境友好与生物相容性优势，为多领域科研课题提供了理想的材料选择。CaO2纳米颗粒独特的缺氧缓解与氧化应激调控能力，使其在肿瘤协同治疗、慢性感染抗菌、缺血组织修复中表现突出，可有效提升光动力、化学动力学等疗法效果。

氧化硅抛光液 MYHSOP05一、产品简介MYHSOP05 是铭衍海（MYHMICRO）研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光液，属于超精密终抛型 CMP 抛光耗材。产品以5nm 单分散球形纳米 SiO₂为磨料，采用稳定碱性水性体系，经多级纯化、精密分散与颗粒调控工艺制成，专为半导体、光学、显示面板、蓝宝石等材料的纳米级超精密抛光设计。其突出特点是低缺陷、高洁净、高平坦、易清洗，可实现原子级表面光洁度

氧化硅抛光液 MYH-SOP40一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面纳米级平坦化加工，确保抛光工件达到超光滑、低损伤的表面精度要求。精准实现纳米级平坦化，兼顾抛光效率与表面质量。“纳米级平坦化” 是行业核心要求，指通过抛光将材料表面粗糙度控制在纳米级范围，同时实现无划痕、无麻点、

在“双碳”目标的驱动下，钠离子电池正从技术验证阶段迈向产业化初期，成为新能源赛道的重要增长极。硬碳是目前公认的钠电池负极主流材料，软碳则在特定细分市场中占据一席之地。负极材料的粒度分布、纯度及批次一致性，直接决定了电池的比容量、首次库仑效率及循环寿命。然而，从实验室研发走向万吨级量产的过程中，筛分环节正成为制约电池材料品控的关键瓶颈。作为深耕精细筛分领域数十年的专业装备制造商，高服机械敏锐洞察行业

氧化铝抛光液 MYH-APS08一、氧化铝抛光液简介氧化铝抛光液（也称纳米氧化铝抛光液）是精密加工领域的关键耗材，核心作用是通过精密研磨抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续加工或使用的理想表面状态，广泛适配多种材质的精密抛光需求。高效提升表面光洁度，优化抛光效果。“精密抛光”是核心工序，通过氧化铝磨料修整工件表面，去除瑕疵与划痕，实现：提升产品精度：保障工件表面平整

氧化铝抛光液 MYH-APS80一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材，通过“物理研磨+化学辅助”，去除工件表面损伤层与毛刺，获得超光滑无缺陷表面，保障工件精度与性能。精准抛光，低损高效。本品核心为“纳米级抛光”，以纳米氧化铝磨料实现原子级修整（Ra达纳米级），可：1.获得镜面光洁度，满足高端装配需求；2.减少表面缺陷，延长工件寿命；3. 兼顾效率与低损伤，适配自动化量产

氧化铝抛光液 MYH-APS150一、氧化铝抛光液MYH-APS150简介氧化铝抛光液MYH-APS15是光通讯、精密金属加工等领域的核心耗材，尤其在光纤器件、不锈钢制品精密加工中发挥关键作用，核心作用是通过精密研磨抛光，去除光纤、不锈钢工件表面细微划痕、杂质及损伤层，提升表面光洁度与平整度，确保光纤传输性能、不锈钢产品品质达到行业严苛标准，助力两大领域产品升级提质。精准提升表面精度，实现镜面级抛

一、产品简介：铭衍海（常州）微电子氧化铝抛光液MYH-APS05是一款专为半导体、光学及精密金属等高端制造场景研发的酸性氧化铝抛光液，以高纯度 α- 氧化铝为磨料，采用分散技术配制的稳定水性悬浮液。专为化学机械抛光（CMP）工艺设计，通过机械研磨 + 弱化学腐蚀的协同作用，实现低损伤、高效率的超精密表面平坦化处理。二、铭衍海氧化铝抛光液MYH-APS05产品特点：1.精密粒径控制液体粒径 200-

氧化铝抛光液MYH-APS100一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS100是光通讯、精密光学等领域精密加工中的关键耗材，核心作用是通过精细抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续装配或使用的理想精度要求。精细提亮表面，去除细微瑕疵。x“精细抛光”是行业术语，指通过纳米级氧化铝磨料的研磨作用，抚平工件表面微小凸起与划痕，提升表面光泽度和平面度，以实现：提升表面精度：保证

氧化铝抛光液MYH-APS400一、氧化铝抛光液MYH-APS400简介氧化铝抛光液 MYH-APS400是光通讯器件、精密光学元件及不锈钢精密部件生产中的核心抛光耗材，通过氧化铝磨料的温和精密研磨，高效去除工件表面细微划痕、毛刺、氧化层及加工瑕疵，显著提升表面光洁度、平整度与镜面效果，确保工件满足高精度光学、物理及外观性能要求，保障装配稳定性与使用寿命。二、铭衍海氧化铝抛光液MYH-APS400

金刚石抛光液 MYH-DPS80产品简介金刚石抛光液 MYH-DPS80 是精密制造核心抛光耗材，以高纯度金刚石微粉为核心磨料，通过精密磨削抛光，精准控制工件表面粗糙度，实现镜面级抛光效果，消除加工划痕、微裂纹等缺陷，保障精密零部件的表面精度与使用性能。产品特点1.粒度精准：磨粒分级严格、分布窄，纳米级精准去除，抛光无划痕、麻点。2.高效切削：高纯度金刚石磨料刃口锋利，对超硬材料去除率高，抛光效率

金刚石抛光液 MYH-DPS200金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS200 是以高纯度纳米金刚石微粉为核心磨料，搭配精准配比的分散、润滑、冷却体系制成的精密加工核心耗材，核心作用是通过超精密抛光加工，对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬材料工件表面进行高效磨削与镜面处理，精确控制工件表面粗糙度与平整度，确保精密制造零部件达到理想的表面精度与物理性能。超精密镜面抛光是精密制造行业核心工艺，指通

2026年，被视为钠离子电池商业化的元年。随着碳酸锂价格反弹及钠电技术的持续迭代，钠离子电池产业正从技术验证阶段迈入规模化应用的关键时期。据行业数据，预计2026年全球钠电池出货量将超过15GWh，到2030年有望突破500GWh。在这一能源变革浪潮中，硬碳和软碳材料作为钠离子电池负极的主流选择，迎来了前所未有的市场机遇。硬碳：钠电池负极的“最佳拍档”硬碳之所以能够成为钠离子电池负极的主流材料，源

金刚石抛光液 MYH-DPS500金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS500 是铭衍海针对高端精密制造研发的超精细抛光耗材，以高纯度微米级金刚石微粉为核心磨料，搭配定制化复合体系制成，核心作用是对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬难加工材料进行超精密抛光，精准控制表面粗糙度与平面度，实现镜面级表面精度，保障零部件优异物理性能。通过精准可控切削实现纳米级镜面抛光，可达成：1.消除表面微瑕疵，降低

碳化硅抛光液 MYH-SCPS500碳化硅抛光液简介碳化硅抛光液 MYH-SCPS500 是第三代半导体碳化硅材料加工的核心精密抛光耗材，通过化学机械协同抛光，实现碳化硅晶片 / 器件表面原子级平坦化，精准控制表面粗糙度与面型精度，消除加工损伤层，保障碳化硅基器件在光电、半导体领域的高性能应用。超净抛光（行业术语）：通过化学腐蚀 + 机械研磨双重作用，去除碳化硅加工产生的刀纹、变质层及亚表面损伤，

在增材制造技术快速发展的今天，3D打印已从概念走向规模化应用。航空航天的复杂构件、医疗器械的定制化植入体、高端模具的精密成型……金属3D打印正以其独特优势重塑制造业格局。而在这场制造革命的背后，有一个容易被忽视却至关重要的环节——金属粉末的筛分处理。粉末的粒度分布是否均匀、纯净度是否达标、是否混入异形颗粒，直接决定了打印件的致密度、力学性能与表面精度。高服机械深耕筛分领域四十余年，针对3D打印金属

氧化硅抛光液 MYH-SOP420产品简介铭衍海 MYH-SOP420 是半导体制程 CMP 工艺核心抛光耗材，核心为电子级高纯度纳米球形氧化硅磨粒，依托化学机械抛光协同特性，实现硅晶圆、介质层、金属互连层纳米级精密抛光，无损伤、无残留、平整度优异，契合半导体前 / 后道制程严苛标准，亦可兼容光通信器件端面超精密抛光，一液多用适配多场景。通过精准抛光实现：1.半导体基材无晶格损伤，为后续制程奠定优

氧化硅抛光液 MYH-SOP480产品简介铭衍海氧化硅抛光液 MYH-SOP480 为光通信 + 半导体双领域超精密抛光核心耗材，核心成分为电子级高纯度超细纳米氧化硅磨粒，依托柔性抛光原理，可实现光学器件端面原子级光洁、半导体晶圆纳米级平整，无损伤精整基材，兼顾光通信超低插损需求与半导体制程严苛标准，适配高端量产加工。超精密镜面抛光，双领域高端适配，实现：1.光器件超低插损、超高回波损耗，满足 8