一、产品概述

Gemini 500 磁控溅射仪是博远微朗（北京）技术发展有限公司自主研发的紧凑型磁控溅射镀膜设备，专为科研实验室及工业研发场景设计，基于物理气相沉积（PVD）中的磁控溅射原理，可实现金属、氧化物等多种材料的均匀薄膜沉积，广泛应用于材料科学、电子显微样品制备、光学器件、传感器研发等领域。设备采用一体化设计，兼具高精度、易操作与高稳定性，是小型化薄膜制备的理想选择。

二、制造商信息

• 企业名称：博远微朗（北京）技术发展有限公司（VPI）

• 成立时间：始于 2004 年

• 企业地址：中国北京市海淀区龙岗路 51 号院 6 号楼 2 层

• 官方网站：

• 全球站：

• 中国站：

• 电话：15321******

三、核心技术参数

四、设备核心优势

1. 精准可控的镀膜过程设备配备高精度膜厚监控系统，可实现 0.001nm/s 级别的速率监控，搭配可旋转、高度可调的样品台，确保薄膜沉积均匀性，满足科研实验对薄膜厚度的严苛要求。

2. 便捷灵活的操作体验搭载 7 寸触摸屏人机界面，支持手动与自动两种操作模式，新手也能快速上手；工艺参数可实时调整，适配不同实验场景的定制化需求。

3. 稳定可靠的性能保障采用直流连续可调电源与机械泵真空系统，搭配成熟的磁控溅射技术，设备运行稳定，可长期为科研实验提供可靠的镀膜支持。

4. 紧凑型设计，适配实验室场景主机体积小巧，无需占用大量实验室空间，同时兼顾玻璃腔体的可视化观察，可实时监控溅射过程，便于实验过程中的参数优化。

5. 高兼容性与拓展性支持多种工艺气体通入，标配铂靶材的同时，可适配 φ50mm 规格的其他靶材，满足不同材料体系的薄膜制备需求，适配材料、电子、光学等多领域研发场景。

五、典型应用场景

• 电子显微样品制备：为 SEM/TEM 等电镜样品制备导电金属薄膜，解决绝缘样品荷电问题，提升成像质量。

• 材料科学研究：制备金属、氧化物、氮化物等功能薄膜，用于薄膜性能表征、界面研究等科研工作。

• 光学与光电器件：制备光学反射 / 透射薄膜、电极薄膜，用于光学器件、传感器、微型光电器件的研发。

• 教学与实验教学：高校、科研院所的薄膜制备教学实验，帮助学生理解磁控溅射原理与薄膜沉积过程。

六、设备使用与维护提示

• 日常使用前需检查真空系统密封性，定期维护机械泵，确保设备真空性能稳定。

• 更换靶材时需在真空腔室泄压后操作，避免腔室污染；实验结束后需按规范程序关闭设备，延长设备使用寿命。

• 如需拓展工艺参数或定制化需求，可联系厂商技术团队获取支持。

七、服务与支持

博远微朗（北京）技术发展有限公司提供完善的售前、售中与售后服务：

• 售前可根据您的实验需求提供定制化工艺方案咨询；

• 设备交付后提供安装调试与操作培训服务；

• 长期提供设备维护、靶材更换、技术升级等售后支持。如需了解更多细节或获取报价，欢迎通过官网或邮箱联系我们