粉体行业在线展览
分散剂
表面改性剂
浮选药剂
着色剂
增塑剂
热稳定剂
粘结剂
助磨剂
表面活化剂
起泡剂
固化剂
脱色剂
其它
产品>
粉体助剂>
>POST CMP 清洗液
POST CMP 清洗液
直接联系
张家港安储科技有限公司
江苏
面议
安储科技
386
半导体芯片在经过化学机械研磨后晶圆表面易产生缺陷, 缺陷的存在会降低芯片的可靠性及芯片产出的良率,而普通清洗化学品不能有效解决此缺陷问题。公司现已经开发出适用于28纳米-130纳米的含TMAH经济型和不含TMAH环保型的研磨后清洗液。7纳米-14纳米先进节点的研磨后清洗液正在研发中。另外根据材料的不同,公司研磨后清洗液包括铜、钴,钨等清洗液产品。
产品咨询
请填写您的姓名:*
请填写您的电话:*
请填写您的邮箱:*
请填写您的单位/公司名称:*
请提出您的问题:*
您需要的服务:
中国粉体网保护您的隐私权:请参阅 我们的保密政策 来了解您数据的处理以及您这方面享有的权利。 您继续访问我们的网站,表明您接受 我们的使用条款
碳吸附材料
蚀刻后清洗液
碳化硅抛光液
沥青阻燃剂
橡胶补强剂
溴化铅
液体导电银胶SEM导电银浆25g/瓶
shp-50
7003 7005 7008AP
TA-301
LS-LN
PK-G