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纳米-微米
产品详情：桌面型原子层沉积系统 小巧紧凑，功能强大，专为科研定制而生，科研工作者的ALD镀膜助手。
桌面式平片原子层沉积系统
原子层沉积（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。
产品描述
厦门韫茂科技公司研发的超小型桌式 ALD 原子层沉积设备是先进材料研究的有力设备之一，它可以在6寸晶元（向下兼容）和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积，具有广泛的应用领域，设各配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统，保证工艺温度均匀，该系统具有**粉末样品桶、晶元載盘，全自动温控制、 ALD 前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制，以及现场 RGA 、 QCM 、臭氧发生器、手套箱等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用的**研发工具
主要技术参数
| Mini Desktop ALD 技术参数 Technical Specifications （HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制备） | |
| 特色 Feature | 结构紧凑，世界上极小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD |
| 功能 Function | 高端制造，功能强大，操作简易，维护方便 |
| 样品**尺寸 | Ф100mm (其他尺寸可定制）硅片或几克粉末 |
| 样品反应温度 Heating | RT-450℃ |
| 前驱体 Max Precursor | **可4组液态或固态反应前驱体, Max 4 Liquid/Solid Precursors，可定制 Can Be Customized |
| 前驱体加热**温度 Max Precursor Heating | RT-200℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <1% (Al2O3) |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧发生器Ozone Generator | 可选配，生产效率15g/h |
| 人机界面 HMI | 全自动化人机操作界面 |
| 安全Safety | 工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO |
M-560/565
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