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高真空磁控溅射系统

PVD-100

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厦门韫茂科技有限公司

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面议

品牌：

韫茂科技

型号：

PVD-100

关注度：

1946

创新点：

厦门韫茂科技有限公司凭借在先进材料设备业务方面多年的经验，韫茂为新型芯片，半导体和锂电池领域的新材料开发和生产，提供最先进的纳米工艺设备和服务解决方案。根据您的特殊需求，我们为您定制打造创新纳米加工平台，保证高品质的设计，多功能，易于使用的界面，严格的安全控制，以及快速的交付和服务。

产品介绍

高真空磁控溅射系统

技术参数：

1高真空腔体：2个腔体,包括负荷锁及Sputtering,极限真空，极限压力<5e-9 Torr

2排气速率：从ATM到1E-7 Torr<20分钟(负载锁)

3样品台：**4寸Wafer，可加热RT-300ºC

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高真空磁控溅射系统

PVD-100

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