单室真空烧结炉的设备用途、特点

该设备用于各种合金材料、器件、钕铁硼磁性材料、钐钴磁性材料、储氢合金、活性与难熔金属的真空烧结、时效等处理。该设备是在消化吸收国外设备优点的基础上，历经多次改进和完善，采用独特的内（外）部气流循环方式和较大的真空机组，具有冷却均匀、速度快、炉温均匀性好、大抽气量、温度均匀可控、高真空度和无渗漏等特点。冷却方式分为内循环(RVSX)和外循环(RVS)两种方式。

控制系统由PLC控制动作，智能温控仪控制温度，控制准确，自动化程度高，可实现全自动/手动无扰动切换及异常报警功能，操作简单可靠。

主要技术指标：

注：特殊规格可按用户要求定制。