粉体行业在线展览
电阻加热8英寸PVT晶体生长炉PVT850
面议
丰港化学
电阻加热8英寸PVT晶体生长炉PVT850
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产品特点
可生长8英寸碳化硅晶体
腔体内壁抛光处理,减少附着力,实现高真空
更精准的控压技术,长晶工艺压力波动<5Pa
多温区设计,方便调节轴向和径向温度场
坩埚轴冷却水流量可精确控制,温度场更稳定
配备坩埚升降和旋转功能,方便厚膜晶体生长温度场控制
可选配坩埚拆卸绞盘和平台,拆炉方便、安全
自主开发的控制系统,丰富的公式编辑界面,操作权限分级,可远程控制
技术参数
腔体内部尺寸Φ850×800mm总加热功率55kW**温度2400℃坩埚轴升降速度加工速度:0.01-0.5mm/h
快进速度:6-300mm/min极限真空1.4E-4Pa压力控制精度±0.5%电源接口3P 380VAC,95kVA气源Ar、He、N2,压力>0.2MPa
压缩空气、压力0.4-0.6MPa冷却水圧力0.3-0.5MPa
流量150L/min尺寸2300×2000×3000mm(不包括坩埚拆卸绞车和平台)
3400×2000×3000mm(包括坩埚拆卸绞盘和平台)重量3900kg