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真空升华提纯炉 VDS40/80
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研博智创
真空升华提纯炉 VDS40/80
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一、设备概述 1、适用范围:广泛用于高校、科研院所及企业的研发小批量生产。 2、产品特点:设备操作简单、真空度高、温区多、可通气氛。 3、主要用途: 在成熟管式加热炉基础上,结合备提纯物; 利用有机小分子材料物理特性及相关提纯工艺研发的三温区高真空升华提纯炉。广泛用于OLED等新型合成材料升华提纯实验和小批量生产之用,替代进口材料,节约材料成本;可用于电子陶瓷产品的预烧、烧结;高温热解低温CVD沉积薄等。 二、技术参数
JGCF350金刚石颗粒镀膜设备
粉体镀膜涂层设备 JGCF650
真空升华提纯炉 VDS40/80
真空电弧炉 VDK250
高真空退火炉 VTHK550
高真空退火炉 VTHK350
高真空电子束蒸发镀膜机 TEMD500
高真空电子束蒸发镀膜机 TEMD600
高真空有机/金属蒸发镀膜机 ZHDS400
高真空电阻蒸发镀膜机 ZHD300
高真空电阻蒸发镀膜机 ZHD400
高真空有机金属蒸发镀膜机ZHD350