粉体行业在线展览
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CMP化学机械抛光清洗机
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声达半导体设备（江苏）有限公司
江苏
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江苏声达
CMP化学机械抛光清洗机
201
| 适用工件： (Applicable parts) | 6"*1花篮，8"*1 pc花篮 6”*1 Cassette,8”*1 pc Cassette |
批量产能： (Capacity) | 1 batch/10min |
| 工艺流程： (Procedure flow) | 上料(手动)→超声药剂槽→QRD槽→超声碱洗槽→QDR槽→HF槽→QDR槽→下料(手动) Load(Manual)→Ultrasonic Cleaning Agent Tank→QRD Tank→Ultrasonic Cleaning Agent Tank→QDR Tank→HF Tank →QDR Tank →Unload(Manual) |
| 主要材料： (Major material) | 金属骨架SUS304+PP乳白板，槽体采用PPN+SUS316 (Metal frame SUS 304,Ice-Cream PP board,the tank uses PPN+SUS316) |
