产品描述

全自动程序控制，彩色触摸屏界面，操作简洁，可镀金（Au)、铂(Pt)等不氧化贵金属，也可镀铱(Ir)、铬(Cr)、铝(Al等多种精细颗粒的易氧化膜材。

应用范围

特别适合场发射电镜、透射电镜制样及制作无定形碳覆形膜/TEM栅网支持膜，也可为薄膜应用等材料领域提供理想的镀膜平台。

产品型号

Q150T S（高分辨率磁控离子溅射镀膜仪，可选辉光放电附件）、Q150T E（高真空热蒸发镀膜仪，用于蒸碳和可选蒸镀金属）和Q150T ES（集成了离子溅射和蒸镀两种沉积功能的镀膜仪）。

名称

规格

工作腔室

150mm内径 x 127mm高

用户界面

触摸屏全图像用户界面

样品台

标配旋转台

真空系统

涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵；旋转机械泵：双级旋转机械泵

溅射电流

0-150mA；可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器

溅射时间

*长60分钟

碳蒸发

稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。

尺寸和重量

仪器机箱：585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm) 重量：33.4Kg