美国PE公司1980年就开始致力于电子行业使用的等离子设备研发及相关服务， 至今已成为全美***的等离子系统解决方案专业供应商， 其旗下PE系列， BT大尺寸系列，大气压系列， PCB专用系列， Roll-to-Roll系列的发展历史已经超过了30年， 广泛应用于全球各大小型生产及研发实验室， 全球超过8000套用户。

知名客户如美国宇航局NASA， 波音Boeing， 霍尼韦尔Honeywell， 摩托罗拉Moto， 德国拜耳Bayer， 军用飞机领军企业洛克希德马丁Lockheed-Martin， 及全美各大名校及科研院所如哈佛大学， 麻省理工， 莱斯大学， 橡树岭国家实验室等等。

美国PE拥有等离子技术领域里*顶尖的技术， 凭借着多年研发和突破性创新， 先已拥有了多项技术**， 如**的温控技术和**的静电屏蔽技术， 使其等离子设备能提供****的处理效率， 均匀性和可靠性， 其刻蚀清洗效率是市面上其他等离子设备的三倍以上。

应用领域如下：

目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、改性、灰化、涂镀和反应离子刻蚀，在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域有广泛应用。

RIE系统刻蚀效果取决于气体的流量，压力和功率设置等方面。

我们设计和制造的反应性离子蚀刻系统，可以满足客户的任何需要，且可以根据客户的要求定制适合的等离子系统。我们的等离子处理系统，以提供快速，高品质的蚀刻，低损伤，提供****的均匀性而著称。

我们的等离子蚀刻机是理想的干蚀刻，目前正在采用的蚀刻：

半导体/集成电路

氮化镓（甘）

氮化铝镓/氮化镓（AlGaN/GaN）

砷化镓/砷化铝镓（一般反避税条款/ algaar）

砷化镓（GaAs）

磷化铟、铟铝砷/铟镓砷化物（InP InGaAs/InAlAs）

硅（硅）

硅锗（SiGe）

氮化硅陶瓷（Si3N4）

硅的溴化氢（sihbr）

硒化锌（ZnSe）

金属

铝（铝）

铬（铬）

铂（铂）

钼（钼）

铌（铌）

钽（钽）

钛（Ti）

钨（钨）

电介质

铟锡氧化物（ITO）

锆钛酸铅（PZT）

碳化硅（碳化硅）

塑料/聚合物

聚四氟乙烯（PTFE）

聚甲醛（POM）

聚苯并咪唑（PBI）

聚醚醚酮（PEEK）

聚酰亚胺（聚酰亚胺）

聚酰胺（尼龙）

全氟烷氧基烷（PFA）

聚全氟乙丙烯（FEP）

聚烯烃

聚酯

失效分析