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产品名称:离子束刻蚀系统
品牌:Elionix
型号:EIS-200
关键词标签:离子束蚀刻,干法蚀刻,离子束轰击,离子束减薄
简短描述:(<40字):利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。
一、简介
EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、镀膜等。
EIS-200原理:
利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速到达样品表面,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。
EIS-200具有以下优点:
?方向性好,各向异性,陡直度高,侧向刻蚀少
?分辨率高
?不受刻蚀材料限制,可对石英等材料进行蚀刻
?可控制蚀刻Taper角
?可以设定多样的实验条件
二、主要功能
l主要应用
纳米级图案刻蚀
高深宽比蚀刻
表面清洁
离子减薄
l技术能力
离子枪 | ECR型离子枪 |
离子化气体 | Ar、Xe等、惰性离子气体 |
N2、O2、CF4等、活性离子气体 | |
加速电压 | 100V~3000V 连续可变(高加速电压可选) (输出电流20mA MAX) |
离子束流密度 | Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時) |
O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時) | |
离子束有效直径 | Φ20mm(FWHM35mm) |
离子束稳定度 | ±3%/2H |
大样品尺寸 | Φ4英寸 |
三、应用
纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等
?SiO2 on Si substrate
?Diamond Substrate(金刚石)
?Quartz (Mask)
?Oriented PET film