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Elionix离子束刻蚀系统

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产品介绍

产品名称:离子束刻蚀系统

品牌:Elionix

型号:EIS-200

关键词标签:离子束蚀刻,干法蚀刻,离子束轰击,离子束减薄

简短描述:(<40字):利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

一、简介

EIS-200Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、镀膜等。

EIS-200原理:

利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速到达样品表面,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

EIS-200具有以下优点:

?方向性好,各向异性,陡直度高,侧向刻蚀少

?分辨率高

?不受刻蚀材料限制,可对石英等材料进行蚀刻

?可控制蚀刻Taper

?可以设定多样的实验条件

二、主要功能

l主要应用

纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刻

表面清洁

离子减薄

l技术能力

离子枪

ECR型离子枪

离子化气体

ArXe等、惰性离子气体

N2O2CF4等、活性离子气体

加速电压

100V3000V 连续可变(高加速电压可选) (输出电流20mA MAX)

离子束流密度

Ar:1.5mA/cm2以上 (2kV加速時)

O2:2.0mA/cm2以上 (2kV加速時)

离子束有效直径

Φ20mmFWHM35mm)

离子束稳定度

±3/2H

大样品尺寸

Φ4英寸

三、应用

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

?SiO2 on Si substrate

?Diamond Substrate(金刚石)

?Quartz (Mask)

?Oriented PET film

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Elionix离子束刻蚀系统

上海纳腾仪器有限公司

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