粉体行业在线展览
钙钛矿太阳能电池蒸发设备ZDF3200
面议
北京泰科诺
钙钛矿太阳能电池蒸发设备ZDF3200
2179
镀膜方式:蒸发
腔室结构:方箱式
工艺室尺寸:L1900mmxH2200mmxW550mm
进样室:500mm×600mm×400mm
过渡室:500mm×600mm×400mm
极限真空:6×10-5pa
基片台尺寸:300mm×400mm
基片温度:常温
均匀性:≤±5.0%
溅射靶:低温和高温线源配置
控制:PC
点地面积:4000mm×2500mm×2200
功率:70KW三相五线制
1. 技术先进、设计优化,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;
2. 广泛应用于钙钛矿太阳能电池/OPV有机太阳能电池等各种膜层的制备;
如:钙钛矿层、电子传输层及背电极等膜层的制备;
高真空磁控溅射镀膜设备JCP500 高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500
高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600
ZHDS400
纳米超硬膜涂层设备GDM1000
纳米超硬膜涂层设备GDM900
粉体镀膜设备JGCF800
粉体镀膜设备JGCF350
钙钛矿太阳能电池磁控镀膜设备JCP700
真空电弧炉VDK250
多功能磁控离子溅射复合镀膜机TSU650
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500
磁控蒸发复合镀膜机JCPF2600
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
FT-701
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
TZ-517D
FRINGE PLUS
SHM1000
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NVT-HG型 单晶生长炉
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