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高真空磁控溅射镀膜设备JCP200

高真空磁控溅射镀膜设备JCP200

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北京泰科诺科技有限公司

北京

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面议

品牌：

北京泰科诺

型号：

高真空磁控溅射镀膜设备JCP200

关注度：

59

产品介绍

设备型号： JCP200

真空腔室结构： 立式上开盖结构

真空腔室尺寸： Φ220mm×H300mm

加热温度： 室温～ 500℃

基片台尺寸： Φ100mm

膜厚不均匀性： Φ50mm 范围内≤ ±5.0%

溅射靶： Φ2 英寸磁控靶 1 支 兼容 DC/RF 溅射

工艺气体 ：1-2 路气体流量控制

控制方式 ：PLC + 触摸屏控制

占地面积 （主机） ：L600mm×W800mm×H1700mm

总功率 ：≥ 6kW


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