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成都超迈光电
四川
500万以上
超迈光电
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本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
本设备可根据客户技术需求，定制研发生产，具体详情请电联我司。
磁控蒸发复合镀膜机JCPF2600
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
TZ-517D
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合金分析仪
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NAI-ZLY-4/6C
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