粉体行业在线展览
GMSD2000-283
5-10万元
SGN/思峻
GMSD2000-283
26
0.1-100μm
研磨与高剪切双工位串联,逐级打散纳米粉体团聚体,全线机型剪切参数统一,小试工艺可平稳放大至连续生产线,稳定控制浆料粒径,杜绝沉降分层
一、产品概述
GMSD2000 在线式研磨分散机,是 SGN 思峻专为纳米粉体湿法解聚细化打造的连续化一体化设备。本机将湿式研磨腔与多级高剪切分散腔体集成一体,可一次性完成干粉团聚体破碎、颗粒超细研磨、纳米颗粒液相分散均质等工序,有效解决纳米氧化铝、勃姆石、二氧化硅等无机粉体软团聚严重、颗粒难以还原至原生粒径、浆料易絮凝沉降等生产难题。设备可直接接入自动化流水线,实现密闭连续化制浆,是新能源、新材料行业纳米粉体浆料制备的核心设备。
二、工作原理
物料连续进入设备腔体,先经过研磨工位,在锥形磨头间隙内受到高强度挤压、摩擦与撞击,大块粉体团聚体被预先破碎;随后物料自动进入多级高剪切分散腔,在超高线速度下产生强湍流场,依靠离心撕裂、液层剪切作用,进一步剥离颗粒之间的范德华力,打散纳米级软团聚。物料逐级完成粗碎 — 研磨 — 精细分散全过程,单次过机即可获得粒径分布均匀的稳定悬浮浆料,无需多次循环处理,既保证粉体细度,又避免颗粒过度粉碎。

三、核心优势
采用研磨 + 高剪切双腔体串联一体化结构,先研磨破团、再剪切分散,一步打通纳米粉体解聚工艺;全系列机型保持一致的线速度与工作间隙,实验室小试工艺可无损耗线性放大至量产生产线,彻底规避传统设备量产细度波动、批次品质参差不齐的痛点。整机腔体镜面抛光无卫生死角,支持 CIP 在线清洗,物料密闭输送无进气起泡,配备水冷密封结构,可长时间高速连续运行,满足洁净化工的生产要求。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
GMSD2000-67
GMSD2000-54
GMSD2000-142
GMSD2000-325
GMSD2000-326
GMSD2000-258
GMSD2000-243
GMSD2000-257
GMSD2000-259
GMSD2000-260
GMSD2000-256
GLC2000-19