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GMSD2000化妆品粉体高速研磨分散机

GMSD2000-284

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上海思峻机械设备有限公司

上海

产品规格型号
参考报价:

5-10万元

品牌:

SGN/思峻

型号:

GMSD2000-284

关注度:

23

范围(量程或细度):

0.1-100μm

创新点:

研磨与分散双工位一体化作业,粉体一次过机完成超细细化,全线机型参数统一,化妆品小试工艺可平稳放大量产,保证膏体细腻无颗粒

产品介绍

一、产品概述

GMSD2000 卫生级在线式研磨分散机,是 SGN 思峻专为化妆品原料生产设计的一体化湿法超细设备。本机将胶体研磨与多级高剪切分散融为一体,可对滑石粉、二氧化钛、云母粉、纳米珠光粉体、彩妆色粉等物料进行连续解聚、湿法研磨、均质混合,一次性消除粉体抱团、颗粒粗大、浆料有颗粒白点等问题。整机严格按照化妆品 GMP 洁净标准制造,密闭连续进料出料,有效防止粉尘飞扬与物料污染,是面霜、粉底液、彩妆色浆、护肤悬浮液连续化制浆的主力设备。

二、工作原理

物料连续进入设备腔体,先进入研磨工位,依靠锥面定转子之间的挤压、摩擦、剪切,打碎粉体硬团聚团;随后自动进入多级高剪切分散腔体,在狭小间隙内承受高速撞击、涡流撕裂,进一步剥离颗粒软团聚,把粉体细化至微米级。物料一次过机即可完成粗破碎、超细研磨、均质分散整套工序,无需反复循环处理,粉体分散均匀,浆料细腻无颗粒,保证彩妆涂抹顺滑、无颗粒感,成品长时间不分层。

GMSD研磨分散机内部结构.png

三、核心优势

创新采用研磨 + 分散双腔体串联一体化结构,先研磨破团再精细化分散,一次过机即可达到多级循环加工效果;全系列机型保持统一线速度与工作间隙,实验室小试配方可零偏差线性放大到量产生产线,解决化妆品小样细腻、大货出现颗粒、批次品质不一致的痛点。整机腔体镜面抛光无卫生死角,支持 CIP 在线清洗,换料无交叉污染,密闭加工减少空气混入,杜绝浆料起泡与细菌滋生,完全满足日化洁净生产要求。

四、主要技术参数

型号

标准流L/h

转速(rpm

线速度(m/s

马达功率(KW

进出口尺寸

GMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1500

10500

41

11

DN50/DN32

GMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN100/DN80

GMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150


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GMSD2000化妆品粉体高速研磨分散机

GMSD2000-284

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