粉体行业在线展览
GMSD2000-287
5-10万元
SGN/思峻
GMSD2000-287
27
0.1-100μm
研磨分散双级一体化处理,强力破除纳米氧化铝硬团聚,全线机型剪切参数一致,浆料配方可平稳放大量产,有效杜绝涂层颗粒与微孔堵塞问题
一、产品概述
GMSD2000 管线式研磨分散一体机,是针对纳米氧化铝粉体制浆开发的在线连续化湿法超细设备。纳米氧化铝表面能高,极易形成硬团聚,传统搅拌设备难以彻底解聚,容易造成隔膜涂层针孔、堵孔、浆料沉降分层等问题。本机将锥形研磨腔与多级高剪切腔体集成一体,一次性完成粉体硬团破碎、软团聚剥离、颗粒润湿均质,稳定制备粒径分布狭窄的氧化铝水基浆料。整机密闭管道化作业,无粉尘污染,可直接对接锂电陶瓷隔膜涂布生产线,实现高固含浆料不间断连续制浆。
二、工作原理
物料依次通过两级处理腔体:首先进入精密研磨工位,依靠定转子高速挤压、摩擦剪切,强力打破氧化铝粉体的硬团聚结块;随后进入多级高剪切分散腔,在超高线速度下撕裂颗粒之间的范德华力,把二次团聚体剥离至原生粒径,并与分散剂、粘结剂充分混合润湿。物料单次过机即可完成研磨、解聚、分散全套工序,无需多次循环加工,浆料无粗大颗粒,长期储存不易絮凝沉淀,保障陶瓷涂层均匀致密,不会堵塞隔膜微孔。

三、核心优势
采用前置研磨 + 后置高剪切串联结构,先破除氧化铝粉体硬团聚,再精细化分散,一次过机即可严控浆料颗粒细度;全系列机型统一转子线速度与腔体间隙,实验室小样配方能够零偏差线性放大至量产线,彻底解决小试浆料分散良好、大生产频繁出现颗粒缺陷、批次稳定性差的难题。整机内腔镜面抛光无死角,支持 CIP 在位清洗,换料无交叉污染;配备循环冷却机械密封,可长期高速连续运行,腔体耐磨耐腐蚀,保障高纯氧化铝浆料无金属杂质污染,满足新能源锂电洁净生产标准。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
GMSD2000-67
GMSD2000-54
GMSD2000-142
GMSD2000-325
GMSD2000-326
GMSD2000-258
GMSD2000-243
GMSD2000-257
GMSD2000-259
GMSD2000-260
GMSD2000-256
GLC2000-19