粉体行业在线展览
GMSD2000-288
5-10万元
SGN/思峻
GMSD2000-288
29
0.1-100μm
研磨分散双腔体一体化作业,一次性破除勃姆石软硬团聚,全线机型剪切参数统一,隔膜涂覆浆料小样配方平稳放大至量产,杜绝涂层颗粒与微孔堵塞
一、产品概述
GMSD2000 管线式一体化研磨分散设备,是针对锂电陶瓷隔膜浆料开发的在线连续化制浆设备,专门用于电池级勃姆石粉体湿法加工。本机将锥形研磨腔体与多级高剪切腔体集成一体,可一次性破除勃姆石硬团聚、剥离软团聚颗粒,完成粉体细化、粘结剂混合、浆料均质全流程作业,有效解决纳米勃姆石极易絮凝抱团、浆料颗粒超标、涂布出现针孔、堵孔、涂层厚薄不均等行业难题。整机密闭管道化生产,严控金属杂质,完全满足锂电新材料高纯生产标准,可直接对接隔膜涂布流水线,实现大流量不间断连续制浆。
二、工作原理
物料由进料端依次进入双级工作腔体。**级为精密研磨区,依靠定转子挤压、摩擦与冲击,打碎干燥后形成的勃姆石硬团聚块,把大颗粒预破碎至微米级别;随后浆料自动进入多级高剪切分散腔,在狭小间隙内形成高强度湍流,依靠高速剪切力撕开颗粒之间的范德华力,充分解离二次软团聚,让勃姆石颗粒均匀分散在水系溶剂与 PVDF 粘结剂体系中。物料一次过机即可完成研磨、分散、均质三道工序,无需多次循环处理,浆料粒径分布窄,长期储存不易沉降,保障陶瓷涂层致密平整,不会堵塞隔膜微孔通道。
三、核心优势
创新采用前置研磨 + 后置高剪切串联一体化结构,先破除勃姆石硬团聚再精细化分散,一次过机稳定控制浆料细度;全系列机型统一转子线速度与腔体间隙,实验室小试配方能够零偏差线性放大至量产线,彻底解决小样分散合格、量产反复团聚、涂布缺陷多的痛点。整机腔体镜面抛光无死角,可实现 CIP 在位清洗,批次之间无交叉污染;配备冷却型机械密封,长时间高速运转温升低,有效避免浆料凝胶结块,过流部件耐磨低析出,严格控制磁性异物,符合锂电高纯浆料生产要求。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
GMSD2000-67
GMSD2000-54
GMSD2000-142
GMSD2000-325
GMSD2000-326
GMSD2000-258
GMSD2000-243
GMSD2000-257
GMSD2000-259
GMSD2000-260
GMSD2000-256
GLC2000-19