粉体行业在线展览
GMSD2000-291
5-10万元
SGN/思峻
GMSD2000-291
26
0.1-100μm
研磨与高剪切一体化串联加工,一次性打散陶瓷粉体硬团聚,全线机型剪切参数统一,隔膜隔离层浆料小试工艺可平稳放大量产,杜绝涂布颗粒与微孔堵塞问题
一、产品概述
GMSD2000 立式管线式一体化研磨分散设备,专为锂电隔膜隔离层悬浮液连续化量产打造。设备集成锥面研磨腔体与多级高剪切分散单元,一次性完成纳米氧化铝、勃姆石、二氧化硅等陶瓷粉体硬团聚破碎、颗粒细化、粘结剂均质混合作业。有效解决纳米填料表面能高、极易絮凝抱团,浆料大颗粒多、涂布出现针孔、涂层厚薄不均、长时间静置沉降等行业难题。整机密闭管道化进料出料,无金属杂质析出,完全满足新能源锂电洁净制浆标准,可直接对接隔膜自动化涂布生产线。
二、工作原理
物料连续进入主机腔体,首先进入高精度研磨工位,依靠定转子高速挤压、摩擦、强力撞击,彻底破碎粉体硬团聚块;随后物料自动进入多级剪切分散腔,在狭小间隙内形成高强度湍流场,剥离颗粒之间的软团聚,让陶瓷粉体均匀分散在 PVDF 水性体系中。物料单次过机即可完成粗破碎、超细研磨、均质分散全流程,无需多次循环加工,浆料粒径分布窄,悬浮稳定性强,保障隔膜隔离层涂层致密均匀,不会堵塞隔膜微孔通道。

三、核心优势
采用前置研磨 + 后置高剪切双腔体串联结构,先破除粉体硬团聚再精细化均质,一次过机即可消除浆料大颗粒;全系列机型统一转子线速度与腔体间隙,实验室小试浆料配方可以零偏差线性放大至连续生产线,彻底解决隔离层悬浮液小样分散稳定、量产频繁团聚、涂布缺陷居高不下的痛点。整机内腔镜面抛光无死角,支持 CIP 在位清洗,换料无交叉污染;配备机械密封冷却结构,长时间高速运行温升可控,避免粘结剂高温变质,适配 24 小时不间断密闭连续制浆。
四、主要技术参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
GMSD2000-67
GMSD2000-54
GMSD2000-142
GMSD2000-325
GMSD2000-326
GMSD2000-258
GMSD2000-243
GMSD2000-257
GMSD2000-259
GMSD2000-260
GMSD2000-256
GLC2000-19
EBF-22
LFS系列
InNovaZ TRL-C
多轴高速分散机单轴
PENGYI
YS
HG高速分散机
BILON-CF1500
落地式 HAM200L
CX-RMW 卧式乳化分散系列-机械密封
LXQLFQ加强型多功能强力分散机系列