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GMSD2000隔离层悬浮液连续研磨分散机

GMSD2000-291

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上海思峻机械设备有限公司

上海

产品规格型号
参考报价:

5-10万元

品牌:

SGN/思峻

型号:

GMSD2000-291

关注度:

26

范围(量程或细度):

0.1-100μm

创新点:

研磨与高剪切一体化串联加工,一次性打散陶瓷粉体硬团聚,全线机型剪切参数统一,隔膜隔离层浆料小试工艺可平稳放大量产,杜绝涂布颗粒与微孔堵塞问题

产品介绍

一、产品概述

GMSD2000 立式管线式一体化研磨分散设备,专为锂电隔膜隔离层悬浮液连续化量产打造。设备集成锥面研磨腔体与多级高剪切分散单元,一次性完成纳米氧化铝、勃姆石、二氧化硅等陶瓷粉体硬团聚破碎、颗粒细化、粘结剂均质混合作业。有效解决纳米填料表面能高、极易絮凝抱团,浆料大颗粒多、涂布出现针孔、涂层厚薄不均、长时间静置沉降等行业难题。整机密闭管道化进料出料,无金属杂质析出,完全满足新能源锂电洁净制浆标准,可直接对接隔膜自动化涂布生产线。

二、工作原理

物料连续进入主机腔体,首先进入高精度研磨工位,依靠定转子高速挤压、摩擦、强力撞击,彻底破碎粉体硬团聚块;随后物料自动进入多级剪切分散腔,在狭小间隙内形成高强度湍流场,剥离颗粒之间的软团聚,让陶瓷粉体均匀分散在 PVDF 水性体系中。物料单次过机即可完成粗破碎、超细研磨、均质分散全流程,无需多次循环加工,浆料粒径分布窄,悬浮稳定性强,保障隔膜隔离层涂层致密均匀,不会堵塞隔膜微孔通道。

GMSD研磨分散机内部结构.png

三、核心优势

采用前置研磨 + 后置高剪切双腔体串联结构,先破除粉体硬团聚再精细化均质,一次过机即可消除浆料大颗粒;全系列机型统一转子线速度与腔体间隙,实验室小试浆料配方可以零偏差线性放大至连续生产线,彻底解决隔离层悬浮液小样分散稳定、量产频繁团聚、涂布缺陷居高不下的痛点。整机内腔镜面抛光无死角,支持 CIP 在位清洗,换料无交叉污染;配备机械密封冷却结构,长时间高速运行温升可控,避免粘结剂高温变质,适配 24 小时不间断密闭连续制浆。

四、主要技术参数

型号

标准流量L/h

转速(rpm

线速度(m/s

马达功率(KW

进出口尺寸

GMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1500

10500

41

11

DN50/DN32

GMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN100/DN80

GMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150


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GMSD2000隔离层悬浮液连续研磨分散机

GMSD2000-291

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